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半导体封装厂研磨废水系统控制条件请求帮助我们公司有一套处理处理半导体封装厂研磨废水的系统,废水主要成分是硅.工艺为:PH调节→混凝→絮凝→沉淀;PH调节用的是30%的NaOH,正常控制在10-11之间;混凝剂用的是20%的Fecl3溶液；絮凝剂用的是PAM（聚炳烯酰胺：分子量800万）现在问题是：为了保证出水水质，混凝槽的PH值控制一直偏低（正常都在5.5-6.0之间），一旦高于6或低于5.5，絮凝槽絮凝效果就会变差，进而影响到出水水质，但如果一直保持这样的控制，出水的PH又会偏低，稍不留意，就会低于指标6，所以特请大家帮分析一下原因？谢谢！
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只看楼主 我来说两句抢地板煤化工废水与原料煤质成分、生产工艺和产品有很大关系，首先要搞清楚水质状况，然后做好预处理
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煤化工污水成分复杂，工艺设计完成之后由于水质变化而导致调试未能达到出水水质要求，所以如何抓好前端设计是关键。
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